A 2000 Mesh Active Silica Powder a szilícium-dioxid por termékek koronájának ékköve, körülbelül 4,5 mikron szemcseméretű, a gyártási és módosítási technológia legmagasabb szintjét képviseli ezen a területen. Minden lépés, a nyersanyagok végső tisztításától (a radioaktív elemek, például az urán és a tórium nagyon alacsony tartalmának biztosítása), az ultra-finom őrlés során végzett szennyezés-ellenőrzésig, a hatalmas fajlagos felületre vonatkozó tökéletes felületi molekuláris tervezésig, tele van kihívásokkal.
A termék által nyújtott teljesítménynövekedés forradalmi. A legfelső kategóriás-elektronikai alkalmazásokban, mint például az AI chipek és szerver CPU-k csomagolása, a 2000 Mesh Active Silica Powder több mint 90%-os kitöltési arányt érhet el, így a csomagolóanyag CTE-értéke szinte tökéletesen megegyezik a szilícium chipével, alapvetően kiküszöbölve a termikus eltérési feszültséget. Kiváló felülete biztosítja, hogy még ilyen magas töltési szint mellett is jó feldolgozhatósággal és elképesztő mechanikai szilárdsággal rendelkezzen az anyag. Optikai területen nagy átlátszó tokozások készítésére használható a precíziós érzékelők védelmére. Speciális bevonatokban nano-szintű sima felületeket érhet el. A rendkívül magas műszaki korlátok és költségek miatt a 2000 Mesh Active Silica Powder-t csak a legmodernebb technológiai területeken alkalmazzák, ahol a teljesítmény a szélsőségekig törekszik, és a költségek nem érzékenyek. Ez egy kulcsfontosságú alapvető anyag, amely támogatja a jövőbeli technológiai fejlődést.
Népszerű tags: 2000 mesh aktív szilícium-dioxid por, Kína 2000 mesh aktív szilícium-dioxid por gyártók, beszállítók, gyár
